CLEAN ROOM(이하 CR이라 칭한다)은 부유입자의 농도가 제어되고 내부에서 입자의 유입, 발생 및 정체가
최소화 되도록 만들어져 사용되며, 온도, 습도, 압력등의 관련 인자들이 필요에 따라 제어되는 공간으로 정의된다.
현재 이러한 CR은 입자오염이 주로 문제가 되는 반도체, 액정표시장치(LCD), 전자, 신소재, 정밀기계 공업,
반도체용 화학약품을 제조하는 화학 공장뿐만 아니라 생물성 입자 오염이 문제가 되는 병원, 의약품 공장, 식품
공업, 농업 분야 나아가 우주개발에도 사용되고 있다.
크린룸의 4대 원칙
1. 크린룸내
분진을 반입시키지 않는다. 2. 크린룸내
분진을 발생시키지 않는다. 3. 크린룸내
발생한 분진을 신속히 배출시킨다. 4. 크린룸내
분진을 퇴적시키지 않는다.
CLEAN ROOM 정의